荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾（ASML）第三季對中國設備銷售額，較前一季暴增109％，中國市場占其設備銷售比重也從第二季的14％升至23％。儘管美國持續施壓，ASML預估中國今年將占全年總銷售額約20％，並看好中國擴充晶片產能帶來的長期需求。
對陸銷售逆勢攀升 美國力推擴大設備出口限制
根據《南華早報》1報導，ASML第三季對中國銷售額較第二季成長109％，中國市場占設備銷售比重同步上升。美國正推動進一步限制中國取得半導體製造設備，除先進製程技術，也希望收緊ASML向中國出口較成熟微影設備的空間。華府推動的《MATCH法案》，即涉及擴大相關設備出口限制。
ASML執行長傅凱（Christophe Fouquet）在投資人電話會議上表示，只要中國客戶仍能取得ASML設備，發展國產替代產品的動機就不會特別強烈。他也指出，中國要在技術上追上ASML，仍有「非常、非常漫長的路」要走。
報導說，這話點出中國半導體自主化面臨的兩難：北京持續投入資源發展國產設備，希望降低對外國技術的依賴；但只要國際設備仍可取得，中國晶片製造商就有誘因採購成熟、可靠的設備，以維持生產效率與產品品質。
ASML對中銷售大幅成長，也顯示出口管制未立即消除中國對半導體設備的需求。即使中國取得最先進製程設備受到限制，持續擴建的成熟製程產能仍需要大量微影及其他製造設備。
ASML預估，中國今年將占公司全年總銷售額約20％。財務長達森（Roger Dassen）說，考量中國持續擴充晶片產能，來自中國的需求在2027年及之後仍可望保持強勁。
AI需求帶動設備訂單 營收預期與產能同步上修
儘管地緣政治風險升高，ASML仍上調2026年全年營收預測下限至440億歐元（約合492.5億美元），毛利率預測則維持在約56％。公司預估第四季營收將達142億至152億歐元。
ASML今年營收預計成長36％，主要動能來自極紫外光（EUV）曝光機需求強勁。公司預估，EUV設備銷售今年將成長逾45％，非EUV業務營收預計成長20％，既有設備服務及相關業務營收則可望成長50％。
EUV曝光機是製造最先進半導體的重要工具，可利用極短波長光源，在晶圓上形成精細電路。隨著人工智慧晶片、高效能運算及先進製程需求增加，EUV設備的戰略重要性持續提高。
ASML原先計畫未來兩年將低數值孔徑（low-NA）EUV系統產能擴大30％，但公司表示，這樣的增幅仍不足以滿足市場需求。傅凱指出，公司正尋找進一步擴產的方法，尤其著眼於2028年及之後的需求。
他透露，客戶討論的重心已從2027年逐步延伸至2028年，部分客戶甚至積極洽談2029年及2030年的設備訂單。這顯示AI運算需求帶動的半導體投資，可能形成持續多年的資本支出週期。
中國市場仍具吸引力 出口管制未必能阻止產能擴張
中國市場為ASML帶來可觀營收，但不表示中國可不受限制地取得最先進EUV設備。美國及其盟友的出口管制，仍可能對中國追趕最先進製程形成約束。
另方面，中國擴充半導體產能的需求未因此消失。只要晶片製造商持續投資成熟製程及相關產線，對可合法取得的設備仍會有採購需求。這也解釋了為何在出口限制升高之際，ASML對中國的銷售仍能大幅成長。
對ASML而言，挑戰在於如何在全球晶片需求、設備產能與地緣政治風險間取得平衡。先進製程設備訂單持續增加，帶動公司上修營收預期；中國市場則提供另一股需求動能，但未來銷售仍須視各國出口規範及實際許可情況而定。