夏一新／加拿大英屬哥倫比亞大學哲學博士，副教授，精神科醫師
美國科技媒體《資訊報》（The Information）7月27日披露，中國已開始生產自主研發的浸潤式深紫外光（DUV）微影設備，首批機台預計交付中芯國際、華虹半導體與長鑫存儲。《路透》（Reuters）翌日查證指出，該計畫由上海國資背景的愛生納電子科技集團主導，並整合宇量昇科技、上海微電子裝備等團隊，預計2026年生產約5台、2027年增至20台。
中國國產DUV消息公布後，全球半導體類股震盪。ASML股價一度重挫逾8%，應用材料、科林研發、科磊等設備商同步走低；美光、SK海力士ADR與SanDisk等記憶體股也遭拋售。這些機台仍接近原型機階段，規模遠小於ASML年產上百台的水準，但市場已開始重新評估全球半導體設備與供應鏈前景。
這波賣壓並非單純短線反應。中國國產DUV仍須通過產線測試，在速度、精度、良率與穩定性上也與ASML成熟設備有距離；但從原型研發走向設備生產，並進入大型晶圓廠驗證，已足以改變外界對中國半導體自主化的看法。真正受挑戰的，不只是ASML眼前訂單，而是西方長期主導高階微影設備的格局。
中國跨出設備自主化關鍵一步
浸潤式DUV仍是成熟製程、先進邏輯晶片與記憶體不可或缺的微影設備。中國無法取得ASML最先進的EUV微影設備，部分高階DUV也受荷蘭出口管制，因此建立本土浸潤式DUV能力，已成為中國半導體戰略的重要一環。
愛生納成立於2023年，註冊資本70億元人民幣，背後有上海國資支持。這項計畫並非新創公司單打獨鬥，而是整合宇量昇、上海微電子與相關設備企業的人才和技術，並由中芯、華虹與長鑫提供產線測試。這種結合國家資本、設備研發與晶圓製造的模式，讓設備可在實際運轉中持續修正。
美國科技封鎖下 中國加速建立自主供應鏈
自2019年起，美國持續收緊對中國半導體出口管制，不只限制ASML向中國出口最先進的EUV微影設備，也陸續把部分高階浸潤式DUV納入限制，試圖放慢中國先進晶片發展。這些限制提高了中國取得尖端設備的門檻，也把半導體自主化從產業策略推向國家科技戰略。
《金融時報》（Financial Times）報導，輝達（NVIDIA）執行長黃仁勳曾多次提醒川普政府，限制高階晶片出口中國，未必能阻止中國發展人工智慧，反而可能促使中國投入更多資源，建立自己的晶片、軟體與設備生態系。從華為AI晶片、DeepSeek大型語言模型、月之暗面Kimi K3，到國產浸潤式DUV開始生產，都顯示中國正在被迫加快自主研發腳步。
ASML仍領先 但全球競局開始改變
微影設備的門檻不只在能否曝光，而在能否高速、精準且穩定地量產。ASML高階浸潤式DUV每小時可處理約330片晶圓，背後是數十年的光學、精密機械與量產經驗，這仍是中國設備必須追趕的核心差距。
中國首批國產浸潤式DUV仍須通過產線驗證，重點在速度、精度、缺陷控制與長期穩定性。少量機台能做出來是關鍵突破，但能否支撐晶圓廠長時間量產，才是真正考驗。短期內，還無法取代ASML，卻已讓中國半導體設備自主化跨出一大步，也讓全球半導體競局出現新的變數。